半导体在集成电路、通信系统、光伏发电等领域应用广泛,大部分的电子产品制造都与半导体息息相关,承载了重要的功能。无论是从科技发展还是经济发展来看,半导体创造的价值都不可估量,是衡量国家科学技术发展能力和发展潜力的重要因素之一。
半导体良率的提高不仅可以降低半导体产业的生产成本,还能显著提高产品的品质和安全性能。超纯水和半导体良率之间有密切的关联性,它能用于清洗半导体材料以保证生产质量。超纯水中基本不含有任何有机物、微生物、金属离子、细菌等物质,用于清洗半导体能确保其不受杂质污染。
超纯水设备是生产超纯水的专用产品,采用了“反渗透+EDI+抛光混床”的技术,生产出的超纯水水质能达到18MΩ*cm(25℃)。反渗透是指超纯水设备中应用了反渗透膜技术,能实现对纳米级物质的分离去除,因而能有效分离出超纯水中应该被去除的金属离子、细菌、和颗粒杂质等成分。同时,由于反渗透膜拥有强大的抗污染能力,因而在生产过程中,它能有效降低超纯水设备的故障率,减少清洗次数,延长设备的使用寿命。
EDI技术能对超纯水进行深度脱盐,能实现带电荷运行加速离子迁移,提高了超纯水设备的脱盐率。并且,EDI模块运行无污染物质产出,不会产生酸碱废液,环保性能很好。抛光混床模块的进一步处理,则有效确保了超纯水设备的出水水质。
总而言之,超纯水设备具有生产连续稳定、无污染、能耗低、工艺流程短、操作简单等优势,其还采用了智能程序,可以灵活进行操作,性价比很高。
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