工业超纯水设备助力科技“芯”发展

在科技越来越发达的当代社会，我们的生活已经离不开各类电子产品。手机、电脑、相机、智能电器等等，为我们的生活带来了极大的便利。电子产品市场需求很大，那么作为电子产品核心的芯片生产也是一个庞大的产业。

在芯片生产过程中，反复清洗是必然工序。通过采用超纯水反复清洗来去除零配件上残留的细微分子，将遗留的超微细颗粒污染物、金属残留、有机物等会造成芯片污染的污染源清洁干净，以避免后续生产加工工艺失败、电学失效，从而降低芯片成品报废概率，减少生产厂的损失。

工业超纯水设备是超纯水生产的优良工具，近年来，该设备技术设计不断完善，为“芯”发展带来了极大的帮助。工业超纯水设备严格执行国家对超纯水发布实施的《仪器分析用高纯水规格及试验方法》的标准，采用了双级反渗透系统+EDI模块的处理技术，由多介质过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等组成的预处理系统、反渗透系统、EDI系统、抛光混床等构成主要工艺段，生产超纯水产量大、质量高。

工业超纯水设备选材优良，耐酸碱清洗、抗高污染，在生产超纯水时脱盐效果非常突出。EDI模块处理不会产生酸碱废液，后续工艺不需要额外再进行酸碱中和处理，提高了生产效率。工业超纯水设备采用靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除，并对矿物质和微量元素充分处理，只保留氢氧原子，运行不会有污染物析出，有效保证系统内部无死水。该设备自动化程度很高，能实现无人值守，操作简便，为企业节约人力投入成本。