半导体行业中的超纯水制备工艺

　　超纯水通常指的是电阻率能够达到18MΩ·cm的水，是既将水中的导电介质几乎去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。

　　半导体行业中的超纯水，又名UP水，主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电子元器件对超纯水使用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。

　　超纯水制备主要包括以下三个阶段，即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。其中，离子交换即是将水中的正离子与离子交换树脂中的H+离子交换，水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换，从而达到纯化水的目的。具体说来主要有以下步骤：

　　1.原水：可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。

　　2.预处理系统：原水箱、原水泵、杀菌剂、石英砂过滤器、活性炭过滤器、换热器、阻垢剂系统。

　　3.双级反渗透系统：保安过滤器、高压泵、反渗透系统。反渗透膜可滤除95%以上的电解质和大分子化合物，包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除，使离子交换柱的使用寿命大大延长。

　　4.EDI系统：EDI的作用就是通过除去电解质(包括弱电解质)的过程，将水的电阻率从0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm。

　　5.抛光树脂：无化学析出的核子级树脂，去除纯水中残余的微量带电离子及弱电解质，使水质达到18MΩ·cm以上。

　　6.终端超滤：能有效地去除水中的微粒、胶体、细菌、热源和有机物力。是整套系统最后的防火墙，确保产出的高纯水不受二次污染。

　　莱特莱德超纯水设备采用靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除同时还能连续、稳定地生产高纯度的超纯水。超纯水设备主要应用领域：晶圆、电子芯片、集成电路、精密仪器、电镀涂装、试剂稀释、氟化工等领域多有应用。