芯片制造对水质的要求是十分苛刻的,对于大众来说,平时接触的自来水(饮用水)的浑浊度小于1NTU(根据现行《生活饮用水卫生标准》GB5749-2022)。这样的自来水在肉眼看来,就已经非常干净了。但是,这在电子行业,尤其是芯片制造领域,还差得很远很远。在芯片生产过程看来,自来水里面杂质多到什么程度?就好比是一锅粥!所以,芯片行业需要对生产用水进行苛刻的纯化处理。
第一层次——去离子水:采用物理、化学方法,去除溶于水中的电解质,获得电阻率在0.1~10MΩ·cm的水(真正纯净的水可被视为绝缘体,生活中的水导电,是因为其中有杂质)。这个过程去除了水中的电解质,但溶于水中的非电解质(如有机物、微生物、颗粒物、溶解性气体等)大部分未被去除。
第二层次——纯水:采用物理、化学方法,去除了水中的几乎全部电解质与非电解质,且水中阳离子和阴离子、有机物、颗粒物、微生物等含量受到一定控制。此时,纯水的电阻率在10~18.2MΩ·cm(25℃),可以被视其为绝缘体了。
第三层次——超纯水:如果将水中阳离子、阴离子、有机物、颗粒物、微生物都进行严格控制,这还不算完,再对水中溶解气体进行严格控制,此时水的电阻率达到18.2MΩ·cm(25℃)以上(接近理论值18.25MΩ·cm,25℃时)。
莱特莱德超纯水设备结合膜分离技术,利用反渗透结合EDI装置制备超纯水,出水电阻率可达18.2MΩ.cm(25℃),满足半导体生产用水的需求。同时,设备还配备了反渗透预脱盐技术,以确保设备的出水水质。同时,EDI处理装置产生的废水较少,不会污染环境,具有较高的环境效益和经济效益,具有广阔的发展前景。
超纯水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守、安装简便、操作方便等优势,出水水质符合电池用水相关标准,为半导体用水保驾护航。随着超纯水设备技术不断完善,开启了各行业生产发展的新局面。许多企业在生产过程中对水质纯度有不同的要求,并得到了广泛的应用,如清洗设备用水、精密产品生产用水、检测用水等。
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