超纯水设备为硅晶圆生产提供高品质超纯水

　　我国虽然半导体材料产业起步较晚，但是发展比较迅猛。那么熟悉半导体领域的人都知道硅晶圆，硅晶圆是半导体的核心，也是成本占比最高的材料，纯度也超高，是一种为了制成半导体基体电路的原材料。

　　这是半导体电路的重要组成，硅晶圆高质量地产出对于半导体产业来说至关重要。因为其要求高，其余对生产中的清洗用水要求也较高，需要使用达到一定标准的超纯水，这样才能不影响硅晶圆产出质量，那么什么样的超纯水设备才能产出高质量的超纯水?

　　目前常见的超纯水设备核心工艺为“预处理+反渗透+EDI+抛光混床”的组合形式。这样的超纯水设备具有高效低能、运行成本低，水资源利用率高、体积较小、维修量小，运行时间长等优点。其中，应用的EDI模块，在运行时是不需要添加任何化学品的，不仅减少了化学品运输问题，同时降低了系统运行费用。本模块不会有酸碱废液产生，所以不需要酸碱中和池，一般情况下，EDI水处理系统产出的浓水可以回收再利用。

　　莱特莱德的超纯水设备设置了不合格产水自动回流系统，EDI系统出水电阻率低于15兆欧时，产水自动回流至EDI进水箱，使其再一次被EDI系统处理，保证EDI产水水质的稳定，同时也保证了后端抛光树脂的使用寿命。

　　这类的超纯水设备可以更好的，连续的，稳定的制备高品质的超纯水，采用的设计结构相对靠近，所以其占地非常小，可以为企业节省很多空间，在符合硅晶圆生产用水水质标准的同时可以使水资源的利用率达到95%~99%，有效提升了水资源利用率。

　　随着我国科技半导体产业的不断发展与壮大，未来将带动产业上下游共同发展，并且硅晶圆的产出质量也将越来越高。