半导体溅射仪舜仪 返回列表页

  JS-1600小型离子溅射仪采用二极（DC）直流溅射原理设计，操作简单方便，适用于扫描电子显微镜（SEM）样品制备,非导体材料实验电极的制作。

  用户可以根据自己的需要自行选择不同的真空条件，溅射电流。大尺寸的真空腔体设计，满足大样品的溅射需求。标配一片金靶，纯度为99.999%，为获得高质量的金膜提供了好的基础。

  JS-1600小型离子溅射仪主要技术指标如下：

1.靶（上部电极）：材料：金，直径：50mm，厚度：0.1mm　纯度：99.999%

2、真空室：直径：160mm，高：120mm

3.样品台（下部电极）：溅射面积：直径：50mm

4．工作真空： 8×10^-2—2×10^-1 mbar

5.离子电流表：50mA

6.数显计时器：根据溅射习惯设定单次溅射时间。

7.电压：-1600DVC

8.机械泵:2升/每秒

9.工作室工作媒介气体：空气或氩气，

10．微型真空气阀： 配有氩气专用进气口和微量充气调节，可连接φ3mm软管。

11. 外型尺寸：360mm×300mm×380mm

备注：JS-600小型离子溅射仪可适用的靶材：金、铂、银及氧化锌