KX 半导体超纯水设备

产品简介：
半导体超纯水设备采用预处理、反渗透系统、EDI系统、抛光混床系统将水中的导电介质几乎给除掉，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物除掉至很低程度的水处理设备。
超纯水系统设备的脱盐核心部件为反渗透膜组件，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，EDI系统及后处理部分共同组成

产品简介：
半导体超纯水设备采用预处理、反渗透系统、EDI系统、抛光混床系统将水中的导电介质几乎给除掉，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物除掉至很低程度的水处理设备。
超纯水系统设备的脱盐核心部件为反渗透膜组件，超纯水系统设备通常由预处理部分，反渗透主机部分，EDI系统及后处理部分共同组成
EDI工作原理：
1、 树脂截留水中的溶存离子。
2、被截留的离子在电极作用下，阴离子向正极方向运动，阳离子向负极方向运动。
3、 阳离子透过阳离子膜，排出树脂 / 膜之外。
4、阴离子透过阴离子膜，排出树脂 / 膜之外。
5、浓缩了的离子从废水流路中排出。
6、去离子水从树脂 / 膜内流出。
半导体超纯水设备产品特点：
1、自动化程度高 ,具有自动保护功能。
2、膜组件为复合膜卷制而成 , 表现出更高的溶质分离率和透过速率。
3、能耗低 , 水利用 , 运行。
4、结构合理 , 占地面积少。
5、系统无易损部件 , 无须大量维修 。
主要用途：
1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。
2、电子产品的生产和清洗。
3、电池产品的生产。
4、半导体产品的生产和清洗。
5、电路板的生产和清洗。
6、其他高科技精细产品的生产。