上海依肯机械设备有限公司
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高剪切胶体磨，特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用Z佳几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
高剪切胶体磨，高剪切研磨机，管线式胶体磨，分体式胶体磨，立式胶体磨，进口胶体磨，14000转胶体磨，转速是普通胶体磨的4-5倍，研磨细化能力更强生产效率更高！
高剪切胶体磨特别适合于胶体溶液，超细悬浮液和乳液的生产。除了高转速和灵活可调的定转子间隙外，CM在摩擦状态下工作，也就被称做湿磨。在锥形转子和定子之间有一个宽的入口间隙和窄的出口间隙，在工作中，分散头偏心运转使溶液出现涡流，因此可以达到更好的研磨分散的效果。CM2000整机采用*几何机构的研磨定转子，的表面处理和优质材料，可以满足不同行业的多种需求。
高剪切胶体磨运行原理：
高剪切胶体磨在电动机的高速转动下物料从进口处直接进入高剪切破碎区，通过一种特殊粉碎装置，将流体中的一些大粉团、粘块、团块等大小颗粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎 区，在十分狭窄的工作过道内由于转子刀片与定子刀片相对高速切割从而产生强烈摩擦及研磨破碎等。在机械运动和离心力的作用下，将已粉碎细化的物料重新压入精磨区进行研磨破碎。精磨区分三级，越向外延伸一级磨片精度越高，齿距越小，线速度越长，物料越磨越细，同时流体逐步向径向作曲线延伸。每到一级流体的方 向速度瞬间发生变化，并且受到每分钟上千万次的高速剪切、强烈摩擦、挤压研磨、颗粒粉碎等，在经过三个精磨区的上千万次的高速剪切、研磨粉碎之后，从而产 生液料分子链断裂、颗粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分达到分散、粉碎、乳化、均质、细化的目的。液料的zui小细度可达0.5um。
胶体磨主要用途
胶体磨适用于制药、食品、化工及其它行业的湿物料超微粉碎，能起到各种半湿体及乳状液物质德粉碎、乳化、均质和混合，主要技术指标已达到国外同类产品的*水平。
胶体磨应用领域：
①食品工业：冰淇淋、月饼馅、果酱、果汁、豆酱、豆沙、花生奶、蛋白奶、乳制品，麦乳精、各种饮料等。
②化学工业：油漆、颜料、润滑脂、柴油、石油催化剂、乳化沥青、洗涤剂、玻璃钢、白炭黑,二氧化硅等。
③日用化工：牙膏、洗涤剂、洗发精、鞋油、高级化妆品、沐浴精、肥皂、香脂等。
④医药工业：各型糖浆、生物制品、*、蜂皇浆、针剂、混悬注射液等。
⑤建筑工业：各种涂料。包括内外墙涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
其它工业：塑料工业、纺织工业、造纸工业、煤炭浮选剂、纳米材料等行业优质环保的生产需要。
IKN胶体磨结构：
三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三级为超微磨碎区。
CM2000系列高剪切胶体磨的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
CM2000系列设备选型表
型号 | 流量 L/H | 输出转速 rpm | 线速度 m/s | 马达功率 KW | 出/入口连接 |
CM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同事流量可以被调节到zui大允许量的10%
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胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
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