北京华林嘉业科技有限公司

硅片腐蚀机;硅片清洗腐蚀设备;基片湿处理设备;硅片清洗刻蚀设备

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北京华林嘉业科技有限公司>> CGB-XXXX-XX半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗机
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CGB-XXXX-XX半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗机

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  • 更新时间:
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  • 北京华林嘉业科技有限公司
  • 2017-09-22 04:26:39
  • 北京市
  • 北京市通州区宋庄镇后夏工业区
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【简单介绍】

德国进口磁白PP板经雕刻后热弯/焊接组合加工,本设备可用于半导体工艺中对2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸硅晶圆片进行去膜/去胶/去蜡处理,该产品技术*、*性强,适用于规模生产。2.整台设备材料均为进口。3.本设备为双排槽构成,每排7槽,各设一套机械手,两排可独立同时完成相应的工序。4.本设备除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。5.每槽装片能力:50片/批(2花篮,25片/花篮)。6.工作区洁净度:100级。7.槽间工艺转换时间:Tm ax≤3.5S。

【详细说明】

半导体硅片去膜/去胶/去蜡清洗机

半导体分立器件设备-硅片去膜/去胶/去蜡清洗机型号:CGB-XXXX—XX系列,品牌:华林嘉业—CGB。德国进口磁白PP板经雕刻后热弯/焊接组合加工; 1.概述:本设备可用于半导体工艺中对2英寸、3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、8英寸硅晶圆片进行去膜/去胶/去蜡处理,该产品技术*、*性强,适用于规模生产。2.整台设备材料均为进口。3.本设备为双排槽构成,每排7槽,各设一套机械手,两排可独立同时完成相应的工序。4.本设备除装片和取片需人工外,其余工艺动作均可自动完成。5.每槽装片能力:50/批(2花篮,25/花篮)。6.工作区洁净度:100级。7.槽间工艺转换时间:Tm ax3.5S有需求此方面设备的朋友,咨询

    
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