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电议 工业超纯水设备

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超纯水设备在设计上采用成熟、可靠、*、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。

 

电子工业超纯水设备特点：
电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床（EDI电除盐系统）系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人值守，同时在工艺选材上采用*和客户要求相统一的方法，使该设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。  
电子工业超纯水的应用领域：
★ 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水；
★ 超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水；
★ 实验室和中试车间用超纯水；
★ 汽车、家电表面抛光处理；
★ 光电子产品；
★ 其他高科技精微产品；
工业超纯水系统，目前zui常用的超纯水工艺：
①    采用反渗透加去离子方法：源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳
滤器→阳树脂软化器→精密过滤器→一级RO反渗透纯水系统→中间水箱→增压泵→一级混床→二级精混床→微滤器→用水点
②    采用去离子方法：源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳过滤器→
树脂软化器→精密过滤器→阳床→阴床→混床→用水点
③    采用反渗透加电去离子方法：源水箱→源水增压泵→多介质过滤器→活性碳
过滤器→阳树脂软化器→精密过滤器→一级RO反渗透纯水系统→中间水箱→增压泵→电去离子装置（EDI）→微滤器→用水点
进水渗数：
源水：城市自来水、地下水（需要检测水样）、进水压力＞0.3MPa，进水电导
＜800us/cm；进水电导率＞800us/cm时，建议使用双级反渗透。
※ 设计参数：100升/天到50吨每天
※ 出水标准：*或二级电子用超纯水标准

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