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GM2000 氧化铝催化剂高剪切均质机胶体磨

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氧化铝催化剂高剪切均质机胶体磨SGN纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,GM胶体模块,GMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。

一、产品名称概述:

氧化铝催化剂高剪切均质机胶体磨,氧化铝催化剂胶体磨,催化剂胶体磨,氧化铝研磨机,氧化铝研磨分散机是机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及分散的效果。

 

二、物料介绍:(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

1.氧化铝催化剂氧化铝载体是指白色粉末状或已成型的氧化铝固体,是一类使用的催化剂载体,约占工业上负载型催化剂的70%。氧化铝有多种形态,不仅不同形态有不同性质,即使同一形态也因其来源不同,而有不同的性质,如密度、孔隙结构、比表面积等。

这些性质对于用做催化剂载体的氧化铝有重要的意义。氧化铝大多是从其氢氧化物(又称水合氧化铝或氧化铝水合物)制备的。

2.氧化铝载体是指白色粉末状或已成型的氧化铝固体,是一类使用的催化剂载体,约占工业上负载型催化剂的70%。氧化铝有多种形态,不仅不同形态有不同性质,即使同一形态也因其来源不同,而有不同的性质,如密度、孔隙结构、比表面积等。

这些性质对于用做催化剂载体的氧化铝有重要的意义。氧化铝大多是从其氢氧化物(又称水合氧化铝或氧化铝水合物)制备的。

 

三、氧化铝催化剂胶体磨,催化剂胶体磨的粉碎效果

 

1.影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

胶体磨磨头头的剪切速率  (越大,效果越好)

胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

 物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

 

2.线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-转子 间距 (m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。
SGN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(转子直径)X 转速 RPM  /   60

 

四、SGN纳米胶体磨与国内胶体磨的性能比较:

1.转速和剪切速率:SGN纳米胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍

2.胶体磨头和间距:SGN纳米胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,GM胶体模块,GMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块。间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差

3.机械密封:SGN纳米胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至ZUI低,可24小时不停运转国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁

 

五、胶体磨选型表:(1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9)

  

胶体磨

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GM 2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GM 2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GM 2000/10

8,000

4,200

23

22

DN50/DN50

GM 2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

GM 2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

GM 2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到ZUI大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度,稠度和ZUI终产品的要求。

 

 

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