CMSD2000 固含量5石墨烯NMP浆料研磨分散机

固含量5%石墨烯NMP浆料研磨分散机 为立式分体结构,有一定输送能力，采用德国先x技术，整机一体化，功能模块化，创x设计，灵活高效；有着高精度的设计，内部的角度、沟槽、间距选择十分科学高效；内部工作组可以一级、二级、三级、四级....可以满足不同物料的要求

固含量5%石墨烯NMP浆料研磨分散机 ，固含量5%石墨NMP浆料研磨分散机 ，固含量5%膨胀石墨浆料研磨分散机 ，固含量5%蠕虫石墨浆料研磨分散机 ，石墨烯分散德国进口设备，IKN石墨烯分散设备，IKN石墨烯研磨分散机

IKN研磨分散机为立式分体结构,有一定输送能力，采用德国先x技术，整机一体化，功能模块化，创x设计，灵活高效；有着高精度的设计，内部的角度、沟槽、间距选择十分科学高效；内部工作组可以一级、二级、三级、四级....可以满足不同物料的要求

IKN研磨分散机是由电动机通过皮带传动带动转齿（或称为转子）与相配的定齿（或称为定子）作相对的高速旋转，被加工物料通过本身的重量或外部压力（可由泵产生）加压产生向下的螺旋冲击力，透过胶体磨定、转齿之间的间隙（间隙可调）时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，达到物料超细粉碎及研磨的效果。

上海依肯的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。简单的说就是将IKN/依肯胶体磨进行进一步的改良，将单一的胶体磨磨头模块，改良成两级模块，加入了一级分散盘。可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择） IKN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前普通设备转速的4-5倍。

碳纳米管NMP浆料 

碳纳米管作为一维纳米材料，重量轻，六边形结构连接*，具有许多异常的力学、电学和化学性能。近些年随着碳纳米管及纳米材料研究的深入其广阔的应用前景也不断地展现出来。

碳纳米管，又名巴基管，是一种具有特殊结构（径向尺寸为纳米量级，轴向尺寸为微米量级，管子两端基本上都封口）的一维量子材料。碳纳米管主要由呈六边形排列的碳原子构成数层到数十层的同轴圆管。层与层之间保持固定的距离，约0.34nm，直径一般为2~20 nm。并且根据碳六边形沿轴向的不同取向可以将其分成锯齿形、扶手椅型和螺旋型三种。其中螺旋型的碳纳米管具有手性，而锯齿形和扶手椅型碳纳米管没有手性。

一、碳纳米管分散技术三要素

二、分散剂用量*

三、碳纳米管水分散剂（TNWDIS）概述

四、超声波分散设备使用建议及分散实例

五、研磨分散设备使用建议

碳纳米管分散技术三要素：分散介质、分散剂和分散设备

固含量5%石墨烯NMP浆料研磨分散机 ，固含量5%石墨NMP浆料研磨分散机 ，固含量5%膨胀石墨浆料研磨分散机 ，固含量5%蠕虫石墨浆料研磨分散机 ，石墨烯分散德国进口设备，IKN石墨烯分散设备，IKN石墨烯研磨分散机

1、分散介质

（1）根据粘度不同，分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中，如水和有机溶剂，碳纳米管易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等，高粘度介质如熔融态的塑料。

（2）此处介绍的碳纳米管分散技术，针对中、低粘度分散介质。

2、分散剂

（1）分散剂的选择，与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

（2）分散剂的用量，与碳纳米管比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

（3）水性介质中，*使用TNWDIS。强极性有机溶剂中，如醇、DMF、NMP， *使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶，*使用TNEDIS 。

3、分散设备

（1）超声波分散设备：非常适合实验室规模、低粘度介质分散碳纳米管，用于中、高粘度介质时会受到限制。

（2）研磨分散设备：适合大规模地分散碳纳米管、中粘度介质分散碳纳米管。

（3）采用“先研磨分散、后超声波分散”组合方法，可以高效、稳定地分散碳纳米管

分散剂用量*。

1、碳纳米管比表面积与分散剂用量

我们试剂级碳纳米管分为单壁管（外径<2nm）和多壁管。多壁管根据外径不同，分为TNM1（外径50nm）。随着外径的增加，碳纳米管的比表面积减小

TNWDIS*用量：单壁管重量的3.5倍， TNM1 重量的1.0倍， TNM8 重量的0.2倍。其余用量参考调整

2、碳纳米管功能化与分散剂用量

功能化后的碳纳米管，更容易在水中分散。 通常，碳纳米管羧基功能化后，分散剂的用量可以减少50%

TNWDIS*用量：羧基化单壁管重量的1.5-1.8倍， 羧基化TNM1 重量的0.5倍， 羧基化TNM8 重量的0.1倍

3、对于TNADIS， TNM8 的*用量是重量的0.2倍。对于TNEDIS, TNM8 的*用量是重量的0.8倍

5%碳纳米管NMP浆料研磨分散机

在做纳米粉体分散或研磨时，因为粉体尺度由大变小的过程中，范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响，是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。
    

研磨机 和分散机组合而成的高科技产品。 

    *级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

    第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子（乳化头）和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

IKN石墨烯研磨设备采用德国先x的高速研磨分散技术，通过超高转速（zui高可达14000rpm）带动超高精密的磨头定转子（通常配CM+8SF，定转子间隙在0.2-0.3之间）使石墨烯浆料在设备的高线速度下形成湍流，在定转子间隙里不断的撞击、破碎、研磨、分散、均质，从而得出超细的颗粒（当然也需要合适的分散剂做助剂）。综合以上几点可以得出理想的导电石墨烯浆料。

固含量5%石墨烯NMP浆料研磨分散机 ，固含量5%石墨NMP浆料研磨分散机 ，固含量5%膨胀石墨浆料研磨分散机 ，固含量5%蠕虫石墨浆料研磨分散机 ，石墨烯分散德国进口设备，IKN石墨烯分散设备，IKN石墨烯研磨分散机