CMD2000 半导体性碳纳米管溶液研磨分散机

半导体性碳纳米管溶液研磨分散机用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行，并且普通乳化机不能承受高转速的运行。

半导体性碳纳米管溶液研磨分散机，半导体性单壁碳纳米管99.9%溶液研磨机,单壁碳纳米管溶液分散机,碳纳米管分散机，碳纳米管分散设备，碳纳米管溶液研磨分散机，高速研磨分散机，单壁碳纳米管研磨分散机，德国进口研磨分散机

IKN 研磨分散机采用德国博格曼双端面机械密封，在保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。而普通乳化机很难做到连续长时间的运行，并且普通乳化机不能承受高转速的运行。

半导体性单壁碳纳米管作为一维纳米材料，重量轻，结构连接*，具有许多异常的力学、电学和化学性能。近些年随着碳纳米管及纳米材料研究的深入其广阔的应用前景也不断地展现出来。

半导体性碳纳米管溶液性质

直径：1.2nm-1.7nm

长度：300nm-5μm

金属杂质：<1%

无定型碳：1-5%

半导体性碳纳米管溶液应用

复合材料，电子器件，荧光标记

半导体性碳纳米管溶液研磨分散机，半导体性单壁碳纳米管99.9%溶液研磨机,单壁碳纳米管溶液分散机,碳纳米管分散机，碳纳米管分散设备，碳纳米管溶液研磨分散机，高速研磨分散机，单壁碳纳米管研磨分散机，德国进口研磨分散机

半导体性碳纳米管溶液制备难点

目前制备碳纳米管的方法很多,然而这些方法所制得的产物中除碳纳米管外常常还含有无定形碳、碳纳米粒子及催化剂颗粒等杂质,这些杂质的存在直接影响到碳纳米管的性能测试及其应用研究,因此碳纳米管的纯化研究十分必要与重要。而不同制备方法所得碳纳米管的性质以及所引入的杂质都不相同,这就增加了碳纳米管纯化研究的难度。上海IKN/依肯公司结合该领域研究前沿对碳纳米管的制备方法做了深入研究，根据以往实验经验*使用IKN碳纳米管溶液胶体磨。

半导体性碳纳米管溶液研磨机设备介绍：

IKN研磨机在碳纳米管导分散中有着突出的优势，IKN研磨机是将胶体磨和分散机合二为一的设备，先研磨后分散，可以将碳纳米管充分、均匀的分散到溶剂或树脂当中，避免团聚，分散更均匀、稳定。

半导体性碳纳米管溶液研磨分散机是胶体磨（研磨机）和分散机组合而成的高科技产品。初级由具有精细度递升的多级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
IKN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，超高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

半导体性碳纳米管溶液研磨分散机，半导体性单壁碳纳米管99.9%溶液研磨机,单壁碳纳米管溶液分散机,碳纳米管分散机，碳纳米管分散设备，碳纳米管溶液研磨分散机，高速研磨分散机，单壁碳纳米管研磨分散机，德国进口研磨分散机